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硅晶片線切割后清洗劑

希爾硅晶片線切割后清洗劑由多種進口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對硅晶片切割后拋光后殘留的硅粉、殘膠，氧化物和油污特別研制。清洗后晶片表面無白班，花斑、腐蝕等不良，適用于各種半導體硅片與硅晶片切割后清洗。

應用領(lǐng)域：主要用于太陽能電池硅晶片切割加工后的清洗，以及半導體芯片、晶圓切割后的清洗。

全國熱線

139-2572-1791

產(chǎn)品特點Product characteristics

√ 專用于硅晶片材質(zhì)，潔凈度高

√ 清洗后表面無花斑，無白斑

√ 清洗效果好，無殘留，不影響導電性能

√ 原液濃度高，槽液壽命長，可循環(huán)使用

√ 水基安全，低泡型，易漂洗，無殘留

√ 符合voc指標要求和歐盟RoHS認證

專用硅晶片清洗無花斑白斑易漂洗環(huán)保無味不傷手

工藝流程

: 金屬清洗劑

希爾金屬清洗劑是采用新配方工藝精制，具有良好的剝離、溶解有色金屬表面氧化物和油脂蠟垢的能力，且使用方便安全，對大部份金屬材料和飾面都沒有影響，具有良好的緩蝕性，適用各種金屬制品除各種油污、拋光蠟。應用領(lǐng)域：廣泛適用各種金屬、不銹鋼、鋁材合金、銅材、鐵材、鋅鎂鈦合金等工件表面清洗機加工油污油脂、拋光蠟與氧化物，效果較好。

: 光學玻璃清洗劑

希爾光學玻璃清洗劑是一種水基環(huán)保清洗劑，對于玻璃蝕刻、CNC、精雕、強化、鋼化、絲印、研磨、拋光、鍍膜前后等均可清洗，主要是洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、瀝青、水垢、水印、灰塵、白點、霉點、指紋等各種臟污，以及平磨后的研磨粉與玻璃粉等，清洗良率達99%以上，潔凈度高，不發(fā)蒙。應用領(lǐng)域：適用各種光學玻璃、光學零部件、石英玻璃、微晶玻璃、發(fā)電玻璃、導電玻璃、lcd與led、玻璃蓋板、藍寶石、鏡片等。

: 手機玻璃清洗劑

希爾手機玻璃清洗劑對于玻璃蝕刻、精雕后、強化前后、鋼化后、絲印后、平磨后、鍍膜前后等工序均可清洗，主要是清洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、灰塵、霉點、指紋，以及研磨粉以及玻璃粉等臟污，清洗良率高達99%以上，潔凈能力強、成本低，是一款環(huán)保、水基型玻璃清洗劑產(chǎn)品！應用領(lǐng)域：適用各種光學玻璃、手機玻璃蓋板、LCD、光學鏡片、藍寶石、ITO玻璃、鏡頭、鏡片、攝像頭，顯示器、液晶玻璃等產(chǎn)品。

: 氧化鈰拋光粉清洗劑

希爾氧化鈰拋光粉清洗劑由多種進口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對玻璃拋光后殘留的氧化鈰拋光粉特別研制。對玻璃表面殘留的氧化鈰顆粒污垢有非常好的的螯合分散和清洗效果。具有對玻璃表面無腐蝕，劃痕少，無毒無污染，操作安全等優(yōu)點。廣泛用于硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽類型的光學玻璃清洗。應用領(lǐng)域：專用于光學玻璃的拋光研磨后的清洗。