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東莞市希爾金屬材料有限公司

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希爾材料-優(yōu)良清洗效果，用量少,無腐蝕,天然環(huán)保

熱門關(guān)鍵詞： 防銹清洗劑 多功能清洗劑 金屬表面油污清洗劑 工業(yè)清洗劑

  • 太陽能硅晶片清洗劑
太陽能硅晶片清洗劑

希爾太陽能硅晶片清洗劑針對電子級、太陽能級硅片在IT及太陽能電池領(lǐng)域的特殊清洗要求而研發(fā)，該產(chǎn)品為單組分，對動物油、植物 油、礦物油污、懸浮液、碾磨膏的乳化、皂化、洗凈性都有很好的表現(xiàn)，對金屬離子有很強(qiáng)的剝離、絡(luò)合、洗凈效果，環(huán)保性好，清洗能力強(qiáng)。

應(yīng)用領(lǐng)域：主要用于太陽能電池硅晶片切割加工后的清洗，以及半導(dǎo)體芯片、晶圓切割后的清洗。

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產(chǎn)品特點Product characteristics

太陽能硅晶片清洗劑應(yīng)用

√ 專用于硅晶片材質(zhì)，潔凈度高

√ 低泡，能滿足高精度的IT要求

√ 槽液使用壽命長，可循環(huán)使用

√ 清洗效果好，無殘留，不影響導(dǎo)電性能

√ 低氣味，不腐蝕，無毒，無閃點，不燃不爆

√ 不含金屬離子，也含磷，符合歐盟RoHS認(rèn)證要求

專用硅晶片清洗  無花斑白斑  易漂洗  環(huán)保無味不傷手

理化指標(biāo)Physical and chemical indicators

外觀 黃色透明液體 密度 1.10-1.2g/L
pH 13.0-14.0（工作液） 安全 不可燃，無腐蝕
環(huán)保 無磷，不含鹵素，符合歐盟RoHS要求

工藝流程Process flow

工藝流程

注意事項Precautions for use

  • 使用方式

    恒溫清洗/超聲波清洗/平面線清洗

  • 使用方法

    在清洗槽中先加 3/4 槽純凈水，然后按 3~5%濃度加入清洗劑，然后將純凈水加至操作液位，加溫到所需溫度，即可以使用。清洗溫度:50-65℃，處理時間:2~5分鐘。

  • 工作液維護(hù)

    1、定期檢查槽液溫度、液位，及時補水及相應(yīng)比例補加原液。

    2、按規(guī)定時間定期更換槽液。

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希爾光學(xué)玻璃清洗劑是一種水基環(huán)保清洗劑，對于玻璃蝕刻、CNC、精雕、強(qiáng)化、鋼化、絲印、研磨、拋光、鍍膜前后等均可清洗，主要是洗玻璃上的切削液、硝酸鉀、拋光粉/液、油墨、瀝青、水垢、水印、灰塵、白點、霉點、指紋等各種臟污，以及平磨后的研磨粉與玻璃粉等，清洗良率達(dá)99%以上，潔凈度高，不發(fā)蒙。應(yīng)用領(lǐng)域：適用各種光學(xué)玻璃、光學(xué)零部件、石英玻璃、微晶玻璃、發(fā)電玻璃、導(dǎo)電玻璃、lcd與led、玻璃蓋板、藍(lán)寶石、鏡片等。
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希爾氧化鈰拋光粉清洗劑由多種進(jìn)口表面活性、緩蝕劑及其它助劑配制而成的水基清洗劑，針對玻璃拋光后殘留的氧化鈰拋光粉特別研制。對玻璃表面殘留的氧化鈰顆粒污垢有非常好的的螯合分散和清洗效果。具有對玻璃表面無腐蝕，劃痕少，無毒無污染，操作安全等優(yōu)點。廣泛用于硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽類型的光學(xué)玻璃清洗。應(yīng)用領(lǐng)域：專用于光學(xué)玻璃的拋光研磨后的清洗。

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