希爾硅片清洗劑是針對(duì)性去除硅片表面的顆粒、有機(jī)物、金屬離子等污染物的水基清洗劑,清洗劑中的活性物質(zhì)可以吸附在硅片表面,使其長(zhǎng)期處于易清洗的物理吸附狀態(tài),并在表面形成保護(hù)層,防止顆粒的二次吸附,能有效提高外延或擴(kuò)散工序的成品率,主要是應(yīng)用于各種硅片切割與拋光后的清洗。
應(yīng)用領(lǐng)域:用于光伏與半導(dǎo)體硅片、晶圓、元器件、薄膜技術(shù)中的玻璃和金屬表面浸漬、噴淋、超聲波的清洗。
139-2572-1791
√ 清洗硅粉與顆粒物效果好,潔凈度高
√ 對(duì)工件表面無(wú)腐蝕,不變色,無(wú)斑白點(diǎn)
√ 原液濃度高,槽液壽命長(zhǎng),可循環(huán)使用
√ 清洗效果好,無(wú)殘留,不影響導(dǎo)電性能
√ 水基環(huán)保,無(wú)毒,無(wú)閃點(diǎn),不燃不爆
√ 符合voc指標(biāo)要求和歐盟RoHS認(rèn)證
清洗除油快 不腐蝕 易漂洗 環(huán)保無(wú)味不傷手
外觀 | 無(wú)色至微黃色液體 | 密度 | 1.00-1.01g/L |
pH | 7-9(工作液) | 安全 | 不可燃,無(wú)腐蝕 |
環(huán)保 | 無(wú)磷,不含鹵素,符合歐盟RoHS要求 |
恒溫浸泡清洗/超聲波清洗/平面線清洗
按比例稀釋成工作液后,加熱至50-60度,恒溫浸泡5-10分鐘,或超聲波清洗2-3分鐘。對(duì)于重污垢工件,延長(zhǎng)清洗時(shí)間或使用多槽多次方式徹底清洗干凈。
1、定期檢查槽液溫度、液位,及時(shí)補(bǔ)水及相應(yīng)比例補(bǔ)加原液。
2、按規(guī)定時(shí)間定期更換槽液。